La resistencia al estrés hídrico de plántulas de Pinus elliottii Engelm. originadas por regeneración natural, fué evaluada en función de las diferentes situaciones de cobertura y, consecuentemente, de radiación fotosintéticamente activa (RAFA) en las que estas crecieron. Los diferentes regímenes lumínicos fueron determinados utilizando la metodología de fotografía hemisférica. Se encontraron diferencias significativas en cuanto a la cantidad de plántulas muertas y los niveles de potencial agua que causaron esa mortandad para las diferentes situaciones. Las plántulas creciendo bajo dosel fueron más sensibles a la sequía, posiblemente debido a un menor desarrollo ontogénico.
Rezzano, C. A., Cabrelli, D. A., & Rebottaro, S. L. (2006).Respuesta a la sequía de plántulas de pinus elliottii Engelm. sometidas a diferentes regímenes lumínicos.Revista de la Facultad de Agronomía,26, (3),p.207-211
http://ri.agro.uba.ar/greenstone3/library/collection/rfa/document/2006rezzanoc
Rezzano, Carlos Abraham, Cabrelli, Daniel Aníbal, Rebottaro, Silvia Lilián. "Respuesta a la sequía de plántulas de pinus elliottii Engelm. sometidas a diferentes regímenes lumínicos".Revista de la Facultad de Agronomía 26, no.3 (2006),207-211. Recuperado de http://ri.agro.uba.ar/greenstone3/library/collection/rfa/document/2006rezzanoc